Etude de l’effet de la température et de la durée de diffusion du phosphore à partir des couches PSG sur la jonction PN.

dc.contributor.authorMekious Saliha
dc.contributor.authorOumohand Ziad
dc.date.accessioned2025-04-15T11:03:35Z
dc.date.available2025-04-15T11:03:35Z
dc.date.issued2023
dc.description80p .; ill .; 30cm (CD-ROM)
dc.description.abstractDans ce travail, nous avons étudié l'effet de la température et de la durée de diffusion du phosphore à partir des couches PSG sur la jonction n+. Cela se fait en utilisant un four à tube de quartz, des plaquettes de silicium multi-cristallin de type « p » et des sources de préforme comme source de phosphore. Nous avons caractérisé nos échantillons par diverses techniques de caractérisation tel que :- Les mesures de la durée de vie de nos échantillons par la technique QSSPC. - Les mesures électriques pour la détermination des propriétés électriques de nos échantillons par les techniques "pointe chaude", "quatre pointes" et "Effet Hall". - Informations moléculaires et nature chimique de nos échantillons analysés par spectroscopie infrarouge à transformée de Fourier (FTIR).
dc.identifier.citationMicroélectrnique
dc.identifier.otherMAST.ELN.70-23
dc.identifier.urihttps://dspace.ummto.dz/handle/ummto/27260
dc.language.isofr
dc.publisherFGEI.UMMTO
dc.subjectDiffusion
dc.subjectPré-dépôt
dc.subjectPSG
dc.subjectDrive-in
dc.subjectFTIR
dc.subjectQSSPC
dc.titleEtude de l’effet de la température et de la durée de diffusion du phosphore à partir des couches PSG sur la jonction PN.
dc.typeThesis

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