Browsing by Author "Hocine, Dalila"

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    Elaboration de films minces de TiO2 par APCVD : Optimisation des propriétés optoélectroniques et structurales pour applications photovoltaîques .
    (Université Mouloud Mammeri, 2013-10-22) Hocine, Dalila
    Ce travail porte sur l’élaboration, la caractérisation et l’application des films minces du TiO2 déposés par la technique APCVD. Dans une première partie, nous nous sommes intéressés à l’élaboration des films minces de TiO2 et à la caractérisation de leurs propriétés structurales, électriques et optiques en vue de l’optimisation des paramètres conduisant aux meilleures performances de tels films pour une application photovoltaïque. Dans une deuxième partie, nous nous sommes intéressés à l’évaluation de la contribution de ces couches de TiO2 déposées par APCVD dans l’amélioration du rendement . des cellules solaires au silicium multicristallin, autrement dit, le gain en rendement qu’on peut atteindre en utilisant la technologie APCVD. Selon nos résultats, cette technologie simple et peu coûteuse induit 14.26% de rendement de conversion avec un gain de +3% absolu par rapport à la cellule de référence (sans couche antireflet). Ces résultats encourageants prouvent l’efficacité de la méthode APCVD pour l’amélioration du rendement des cellules solaires au silicium .
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    Enhanced light absorption in porous silicon with nanocrystalline TiO2 deposited by metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD)
    (26/06/2019) Hocine, Dalila; S. Oussidhoum; M. Bensidhoum; A. Crisbasan; D. Chaumont; E. Bourennane; A. Moussi; E. Lesniewska; N. Geoffroy; M.S. Belkaid
    In this paper, nanocrystalline TiO2 thin films were successfully deposited on porous silicon (PSi) by metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) technique for different periods of times: 5, 10 and 15 min. The objective was to improve the optical absorption properties of the porous layers dedicated for photovoltaic application. The structural, morphological and optical properties of the elaborated TiO2/PSi samples were analyzed by means of X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM), atomic force microscopy (AFM), photoluminescence (PL) and UV-Visible absorption spectroscopy methods. The effect of deposition time on the microstructural properties which influence the optical characteristics of the obtained samples was also examined. The XRD analysis confirms the nanocrystalline structure of the deposited TiO2 composed only by anatase. The SEM characterization evidenced an increase in the TiO2 film thickness showing more uniform surfaces as the deposition time rises. Correspondingly, the surface roughness increases with the particle size and film thickness as indicated by AFM studies. The UV-Vis measurements showed a considerable enhancement in optical absorption of porous silicon after the deposition of nanocrystalline TiO2 films. Indeed, the TiO2 coatings deposited on PSi for 15 min with thickness of 200 nm have the best structure quality and exhibit, consequently, the highest absorption. From these interesting results, we demonstrate the viability of the use of the MOCVD as reproducible process for the elaboration of highly efficient antireflective layers.